Synopsys Design Platform通过三星 8LPP工艺技术认证

经硅验证的参考设计流程为高性能、低功耗应用带来高质量结果和时间优势

加州山景城，2018年5月22日电，美通社 -- Synopsys（NASDAQ： SNPS）近日宣布其Synopsys Design Platform已通过全球领先半导体技术企业三星电子的工艺认证，支持三星代工部门的8nm LPP（低功耗+）工艺。Synopsys Design Platform可以为8LPP工艺的多次图形曝光光刻技术和全颜色感知变化技术，提供完整的全流程支持。Synopsys的SiliconSmart^®库表征工具是开发认证过程和参考流程所需基础IP的关键。认证过程还包括一套与Synopsys Lynx设计系统兼容的可扩展参考流程，流程包含自动化脚本和设计最佳实践案例。用户可以通过三星先进晶圆代工生态系统（SAFE™）计划获得该参考流程。

三星电子代工业务营销副总裁Ryan Lee表示：“在行业切换到EUV（极紫外）光刻技术之前，我们的8LPP工艺可以提供最具竞争力的工艺优势。Synopsys一直是我们在新工艺节点研 发和赋能方面首选的合作供应商。此次将8LPP在性能、功耗和逻辑门密度方面的优势，与Synopsys Design Platform的高质量结果和时间优势相结合，可以使我们的共同客户设计出满足高性能、低功耗应用的最具竞争力的8LPP片上系统（SoC）产品。”

Synopsys设计事业群营销和业务开发副总裁Michael Jackson表示：“行业领先的客户已经部署经硅验证的Synopsys Design Platform去设计和生产速度更快、功耗更低的8LPP芯片。我们的参考设计流程通过三星 SAFE计划得到广泛应用，让设计人员可以快速、安心地通过Synopsys Design Platform切换到三星的8LPP工艺，充分利用8LPP更窄的金属间距所带来的结果质量优势。”

基于Armv8-A 架构的64位Arm Cortex-A53处理器，可以对结果质量（QoR）进行优化和流程认证。Synopsys Design Platform 8LPP参考流程的关键工具和功能包括：

• IC Compiler™ II布局和布线：多次图形曝光和颜色感知的物理实现流程，具有自动化电源及接地（PG）综合与设计内置的电压降感知改进。
• Design Compiler^® Graphical RTL综合：具有布线拥塞改善和物理引导功能，与IC Compiler II密切关联。
• DFTMAX™和TetraMAX^® II测试：基于FinFET、单元感知，以及基于时序裕量的在速转换测试，可获得更高的测试质量。
• Formality^® 形式验证：基于UPF的等价性检查，状态转换验证。
• IC Validator signoff物理验证：高性能的DRC signoff 、LVS感知的短路查找器、signoff 填充、模式匹配，以及独特的设计内置（In-Design）验证，可以在IC Compiler II中自动修复DRC，以及实现准确感知时序的金属填充。
• PrimeTime^®时序signoff: 具有模式合并、采用先进波形传播（AWP）的超低电压时序signoff、参量化片上变化（POCV）分析和感知布局规则的工程变更指令（ECO）指导等功能。
• StarRC™提取：多次图形曝光，全颜色感知变化和3D FinFET建模。

三星 SAFE™计划现在已可提供与Synopsys的Lynx设计系统兼容的经认证的可扩展参考流程。Lynx设计系统是一个全芯片设计环境，包括创新的自动 化和报告功能，可帮助设计人员实施和监控其设计。它提供了一个生产级RTL-to-GDSII流程，可简化和自动化完成许多关键的设计实现和验证任务，使 工程师能够专注于实现性能和设计目标。三星 SAFE™计划提供了三星代工经广泛测试的工艺设计工具包（PDK）和参考流程（包含设计方法）。